Powlekanie próżniowe polega na ogrzewaniu i odparowywaniu źródła parowania w próżni lub napylaniu katodowym z przyspieszonym bombardowaniem jonowym i osadzaniu go na powierzchni podłoża w celu utworzenia jednowarstwowej lub wielowarstwowej folii.Jaka jest zasada powlekania próżniowego?Następnie przybliży nam go redaktor RSM.
1. Powłoka przez odparowanie próżniowe
Powłoka przez odparowanie wymaga, aby odległość pomiędzy cząsteczkami lub atomami pary od źródła parowania a powlekanym podłożem była mniejsza niż średnia swobodna droga cząsteczek gazu resztkowego w pomieszczeniu powlekania, tak aby zapewnić, że cząsteczki pary parowanie może dotrzeć do powierzchni podłoża bez kolizji.Upewnij się, że folia jest czysta i mocna, a parowanie nie spowoduje utlenienia.
2. Powłoka metodą napylania próżniowego
W próżni, gdy przyspieszone jony zderzają się z ciałem stałym, z jednej strony kryształ ulega uszkodzeniu, z drugiej strony zderzają się z atomami tworzącymi kryształ, a w końcu z atomami lub cząsteczkami na powierzchni ciała stałego wypluć na zewnątrz.Napylony materiał jest nakładany na podłoże w celu utworzenia cienkiej warstwy, co nazywa się napylaniem próżniowym.Istnieje wiele metod rozpylania, spośród których najwcześniejsze jest rozpylanie diodowe.Według różnych celów katodowych można je podzielić na prąd stały (DC) i wysoką częstotliwość (RF).Liczba atomów rozpylanych w wyniku uderzenia jonu w powierzchnię docelową nazywana jest szybkością rozpylania.Przy dużej szybkości rozpylania prędkość tworzenia filmu jest duża.Szybkość rozpylania jest powiązana z energią i rodzajem jonów oraz rodzajem materiału docelowego.Ogólnie rzecz biorąc, szybkość rozpylania wzrasta wraz ze wzrostem energii ludzkich jonów, a szybkość rozpylania metali szlachetnych jest wyższa.
Czas publikacji: 14 lipca 2022 r