Powłoka przez napylanie magnetronowe to nowa metoda fizycznego powlekania parowego, w porównaniu z wcześniejszą metodą powlekania przez odparowanie, jej zalety pod wieloma względami są dość niezwykłe.Jako dojrzała technologia, rozpylanie magnetronowe znalazło zastosowanie w wielu dziedzinach.
Zasada rozpylania magnetronowego:
Pomiędzy napylony biegun docelowy (katoda) a anodę dodaje się ortogonalne pole magnetyczne i pole elektryczne, a komorę wysokiej próżni wypełnia się wymaganym gazem obojętnym (zwykle gazem Ar).Magnes trwały tworzy pole magnetyczne o wartości 250-350 gausów na powierzchni materiału docelowego, a ortogonalne pole elektromagnetyczne składa się z pola elektrycznego wysokiego napięcia.Pod wpływem pola elektrycznego jonizacja gazu Ar na jony dodatnie i elektrony jest celem i ma pewne podciśnienie od celu od bieguna pod wpływem pola magnetycznego i wzrostu prawdopodobieństwa jonizacji gazu roboczego, tworząc plazmę o dużej gęstości w pobliżu katoda, jon Ar pod działaniem siły Lorentza, przyspiesza, aby dolecieć do powierzchni celu, bombardując powierzchnię celu z dużą prędkością, Napylone atomy na celu działają na zasadzie konwersji pędu i odlatują od powierzchni celu z dużą kinetyką energię do warstwy osadzania podłoża.
Rozpylanie magnetronowe ogólnie dzieli się na dwa rodzaje: rozpylanie DC i rozpylanie RF.Zasada działania sprzętu do napylania prądem stałym jest prosta, a szybkość napylania metalu jest duża.Zastosowanie rozpylania RF jest szersze, oprócz napylania materiałów przewodzących, ale także napylania materiałów nieprzewodzących, ale także reaktywnego rozpylania metodą wytwarzania tlenków, azotków i węglików oraz innych materiałów złożonych.Jeśli częstotliwość RF wzrasta, staje się to mikrofalowym rozpylaniem plazmy.Obecnie powszechnie stosuje się mikrofalowe rozpylanie plazmowe typu elektronowego rezonansu cyklotronowego (ECR).
Materiał docelowy do powlekania metodą rozpylania magnetronowego:
Materiał docelowy do napylania metali, materiał do napylania stopów powłokowych, materiał do napylania ceramicznego, materiały docelowe do napylania ceramicznego borku, materiał docelowy do napylania węglika ceramicznego, materiał docelowy do napylania fluorku ceramicznego, materiały docelowe do napylania azotku ceramicznego, cel ceramiczny na tle tlenku, materiał docelowy napylania ceramicznego selenku, tarcze do napylania ceramiki krzemkowej, tarcze do napylania ceramiki siarczkowej, tarcze do napylania ceramicznego tellurku, inne tarcze ceramiczne, tarcze ceramiczne z tlenku krzemu domieszkowanego chromem (CR-SiO), tarcze z fosforku indu (InP), tarcze z arsenku ołowiu (PbAs), arsenek indu cel (InAs).
Czas publikacji: 03 sierpnia 2022 r